Fabrication of Porous GaN using Bottom-Up Approached through Electron Beam Evaporator for High Efficient Devices
In recent years, the use of porous semiconductor has become an alternative way in reducing the impact of lattice mismatch and propagation of threading dislocations into the overgrown layer. Porous GaN materials have been considered as one of the most promising materials for optoelectronic applica...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Samsudin, M. E. A., Zainal, N., Hassan, Z. |
---|---|
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
اللغة: | English |
منشور في: |
2015
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://eprints.usm.my/48738/1/Section%20C%20159.pdf%20cut.pdf http://eprints.usm.my/48738/ |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Potential of polycrystalline GaN deposited by electron beam evaporator for metal-semiconductor-metal {MSM) photodetector device
بواسطة: Ariff, A., وآخرون
منشور في: (2017) -
Growth of Gallium Nitride (GaN) on Aluminium Nitride Surfaces Grown by Electron-Beam Evaporator
بواسطة: Fikri, Z. M., وآخرون
منشور في: (2015) -
Study Of Cubic GaN On Porous GaAs Substrate For High Efficient Energy Devices.
بواسطة: Zainal, Norzaini
منشور في: (2016) -
Optimization of Post-Annealing NH3 Temperature for GaN Growth on GaAs (100) Substrate via Electron Beam Evaporator
بواسطة: Taib, M. lkram Md, وآخرون
منشور في: (2015) -
Enhancement Of Efficiency Of GaN-On-GaN Led By Wet Etching Roughening On N-Face GaN Substrate
بواسطة: Alias, Ezzah A., وآخرون
منشور في: (2020)