Fabrication of Porous GaN using Bottom-Up Approached through Electron Beam Evaporator for High Efficient Devices

In recent years, the use of porous semiconductor has become an alternative way in reducing the impact of lattice mismatch and propagation of threading dislocations into the overgrown layer. Porous GaN materials have been considered as one of the most promising materials for optoelectronic applica...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Samsudin, M. E. A., Zainal, N., Hassan, Z.
التنسيق: Conference or Workshop Item
اللغة:English
منشور في: 2015
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://eprints.usm.my/48738/1/Section%20C%20159.pdf%20cut.pdf
http://eprints.usm.my/48738/
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة