Modelling of sacrificial spin-on glass (SOG) etching in non-straight microchannels using hydrofluoric acid
This paper studies spin-on glass (SOG) etching in T-shaped microchannels using hydrofluoric acid (HF). An etching model based on non-first order chemical reaction/steady-state diffusion sacrificial layer etching mechanism is presented to compensate for the etching effect at channel junction. Microch...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , |
|---|---|
| التنسيق: | |
| منشور في: |
2017
|
| الوصول للمادة أونلاين: | http://dspace.uniten.edu.my:8080/jspui/handle/123456789/5318 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|